Название:Разработка новых подходов в характеризации перспективных материалов электронной техники
Грантодатель:РФФИ
Область знаний:02 - ФИЗИКА И АСТРОНОМИЯ
Научная дисциплина:02-211 Взаимодействие рентгеновского, синхротронного излучений и нейтронов с конденсированным веществом 02-202 Полупроводники 02-204 Поверхность и тонкие пленки
Ключевые слова:топография, фазовая радиография, реальная структура, дифракционные данные, компьютерная обработка
Время действия проекта:2006-2008
Тип:исследовательский
Руководитель(и):Шульпина,ИЛ
Подразделения:
Код проекта:06-02-16244
Финансирование 2006 г.:250000
Исполнители: Аргунова,ТС: лаб. дифракционных методов исследования реальной структуры кристаллов (Аргуновой,ТС)
Ратников,ВВ: лаб. дифракционных методов исследования реальной структуры кристаллов (Аргуновой,ТС)
Щеглов,МП : лаб. дифракционных методов исследования реальной структуры кристаллов (Аргуновой,ТС)
дифрактометрии и фазовой (синхротронной) радиографии на основе разработки новых подходов к анализу данных и оптимального сочетания методов. Изучаются эффекты дифракции в кристаллах, содержащих разнообразные дефекты, позволяющие получать информацию в виде набора структурных параметров (фактора Дебая-Валлера, компонентов тензора микродисторсии, размеров областей когерентного рассеяния вдоль и по нормали к поверхности и др.). Разработанные методики применяются к совершенным кристаллам (в том числе Si большого диаметра), кристаллам с высоким коэффициентом поглощения рентгеновских лучей (GaSb, CdTe), кристаллам с необычными дефектами (микротрубками, SiC), разнообразным эпитаксиальным гетероструктурам (в том числе на основе нитридов), пористым материалам, наносистемам. Выполнение проекта повышает научный уровень структурных исследований перспективных материалов электронной техники.