Название: | AlGaN гетероструктуры для электроники и оптоэлектроники УФ диапазона: эпитаксия и исследование свойств |
Грантодатель: | РФФИ |
Область знаний: | 02 |
Научная дисциплина: | 02-212 Образование и структура кристаллов |
Ключевые слова: | Нитрид галлия, нитрид алюминия, газофазная эпитаксия, сверхрешетки |
Время действия проекта: | 2013-2015 |
Тип: | исследовательский |
Руководитель(и): | Лундин,ВВ |
Подразделения: | |
Код проекта: | 13-02-00804 |
Финансирование 2013 г.: | 1000000 |
Исполнители: |
Давыдов,ВЮ: лаб. спектроскопии твердого тела (Старухина,АН)
Заварин,ЕЕ: лаб. физики полупроводниковых гетероструктур (Цацульникова,АФ)
Николаев,АЕ: лаб. физики полупроводниковых приборов (Лебедева,АА)
Сахаров,АВ: лаб. физики полупроводниковых гетероструктур (Цацульникова,АФ)
Смирнов,АН: лаб. спектроскопии твердого тела (Старухина,АН)
Усов,СО: лаб. физики полупроводниковых гетероструктур (Цацульникова,АФ)
Яговкина,МА : лаб. диагностики материалов и структур твердотельной электроники (Брункова,ПН)
|
Проект направлен на исследование физических свойств и методов создания различных гетероструктур на основе соединений AlGaN, в том числе сверхрешеток для использования в электронных и светоизлучающих приборах Несмотря на значительный прогресс в разработке технологии Ш-N соединений, позволивший создать эффективные источники света видимого диапазона и электронные структуры, существует большое количество проблем в синтезе твердых растворов AlGaN и гетероструктур на их основе, что ограничивает эффективность излучения в УФ диапазоне. В ходе реализации проекта предполагается: - исследовать режимы роста AlGaN во всем диапазоне составов с целью получения информации о взаимосвязи условий роста и структурного совершенства материала и нахождения оптимальных режимов эпитаксии; - исследовать возможность создания короткопериодных сверхрешеток AlN/(Al)GaN с целью замены твердых растворов AlGaN с содержанием алюминия 30-70%; - исследовать влияние дизайна сверхрешеток AlN/(Al)GaN (толщин слоев, профилей легирования) на их свойства.