Название:Кремниевые светоизлучающие структуры, созданные с помощью инженерии дефектов, образующих уровни в запрещенной зоне
Грантодатель:РФФИ
Область знаний:02 - ФИЗИКА И АСТРОНОМИЯ
Научная дисциплина:02-202 Полупроводники, 02-340 Спектроскопия
Ключевые слова:Инженерия дефектов, светодиоды, кремний, кислород, имплантация, отжиг, преципитация, люминесценция, структурные дефекты, электрически активные центры
Время действия проекта:2013-2014
Тип:исследовательский
Руководитель(и):Соболев,НА
Подразделения:
Код проекта:13-02-92622
Финансирование 2013 г.:700000
Исполнители: Вдовин,ВИ: лаб. физики полупроводниковых приборов (Лебедева,АА)
Забродский,ВВ: лаб. квантоворазмерных гетероструктур (Иванова,СВ)
Калядин,АЕ: лаб. физики полупроводниковых приборов (Лебедева,АА)
Кютт,РН: лаб. дифракционных методов исследования реальной структуры кристаллов (Аргуновой,ТС)
Лошаченко,АС: лаб. физики полупроводниковых приборов (Лебедева,АА)
Паршин,ЕО: None
Федина,ЛИ: None
Шек,ЕИ: лаб. физики полупроводниковых приборов (Лебедева,АА)
Штельмах,КФ : лаб. физики полупроводниковых приборов (Лебедева,АА)
Проект посвящен развитию инженерии дефектов в технологии создания кремниевых светоизлучающих структур (СИС), основанной на преципитации и имплантации ионов кислорода, с целью увеличения интенсивности люминесценции, обусловленной излучательной рекомбинацией через уровни, образующиеся в запрещенной зоне. Основная идея проекта заключается в изучении динамики развития дефектов, контролирующих процессы излучательной и безызлучательной рекомбинации, и корреляции структурных, электрофизических и оптических свойств материала. Развитие технологических методов ионной имплантации и образования преципитатов кислорода и объединение их возможностей для целенаправленного введения структурных дефектов, образующих соответствующие уровни в запрещенной зоне, позволят увеличить эффективность люминесценции в кремнии. Будут выявлены электрически активные центры, ответственные за излучательную и безызлучательную рекомбинацию в СИС, и установлены их природа и микроскопическая структура, а также разработана модель люминесценции через электрически активные уровни, образовавшиеся в запрещенной зоне при введении кислорода в кремний. Объединение усилий российских и английских ученых позволит разработать физические основы технологии СИС и изготовить светодиодные структуры с рекордными параметрами. Развитие представлений о механизмах образования протяженных структурных дефектов и их роли в образовании электрически активных и люминесцентных центров будет достигнуто за счет использования взаимодополняющих современных методов исследования структурных дефектов, люминесцентных и электрически активных центров: просвечивающая и высокоразрешающая электронная микроскопия (ТЕМ и HREM), электронная и рентгеновская дифракция (TED и XRD), Рамановская спектроскопия, вторичная ионная масс-спектрометрия (SIMS), обратное резерфордовское рассеяние ионов (RBS), фото-, катодо- и электролюминесценция (ФЛ, КЛ и ЭЛ), емкостная спектроскопия глубоких уровней (DLTS), использование методов электрически детектируемого магнитного резонанса и электронного парамагнитного резонанса (ЭДМР и ЭПР), измерения эффекта Холла, вольт-фарадных характеристик и фотопроводимости.